ВПЛИВ ТЕХНОЛОГІЧНИХ ПАРАМЕТРІВ ПРОЦЕСУ ЕЛЕКТРОЛІТИЧНОГО ХРОМУВАННЯ НА ЯКІСТЬ УТВОРЕНИХ ПОКРИТТІВ
DOI:
https://doi.org/10.30890/2567-5273.2023-27-02-003Ключові слова:
електроліти хромування, густина струму, гальванікаАнотація
В роботі розглядається процес електрохімічного нанесення хромового покриття та залежність якості утворених покриттів від складу електроліту та способу його застосування. Встановлений вплив різних факторів на технологічні параметри процесу хромування (вихіMetrics
Посилання
Кондращенко О.В. Корозія і захист матеріалів та конструкцій // Харків: ХНАМГ, 2005. – 124 с.
Хромування деталей: види покриттів і технологій [Електронний ресурс] – Режим доступу: http://budbud.in.ua/hromuvannya-detalej-vydy-pokryttiv-i-tehnologiyi.html.
Чумак М.Г. Матеріали та технологія машинобудування – К.: Либідь, 2000. – 368 с.
Бутиріна Т. Є., Васильєва О. О., Проценко В. С. Електроосадження хрому з розчинів тривалентних сполук хрому з добавками водорозчинних синтетичних поліелектролітів // Фізико-хімічна механіка матеріалів, спец. випуск № 4. – Львів – 2004. – С. 675-678.
Kondrashchenko O.V. Koroziya i zakhyst materialiv ta konstruktsiy // Kharkiv: KHNAMH, 2005. – 124 s.
Hhromyvannya detalei: vudu pokruttiv I tehnologiy [Chromium plating details: types of coatings and technologies]. Retrieved from:http://budbud.in.ua/hromuvannya-detalej-vydy-pokryttiv-i-tehnologiyi.html. [in Ukrainian].
Chymak, M.G. (2000). Material ta tehnologiya mashinobydyvannya [Materials and technology of mechanical engineering]. Kyiv [in Ukrainian].
Byturina, T.E., Vasulieva, O.O., & Protsenco, V.S. (2004). Elektroosadzennya hromy z rozchuniv truvalentnux spolyk hromy z dobavkamu vodorozchunnuh suntetuchnuh polielektrolitiv [Electrodeposition of chromium from solutions of trivalent chromium compounds with the addition of water-soluble synthetic polyelectrolytes]. Lviv: Fizuko-himichna mehanika materialiv [in Ukrainian].
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2023 Автори
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
